浅谈抛光工艺原理与抛光技术

发布时间：2018-06-12

    抛光工艺的原理是利用抛光轮与抛光膏等精细磨料，对零件表面进行轻微切削和研磨，除去零件表面的细微不平，以达到整平表面、提高光洁度的目的。
多数金属在空气中会迅速形成氧化膜。抛光时磨料首先把凸出处的氧化膜抛掉，凹入处则未抛到，纯金属露出后又很快氧化，再被抛去。如此反复，直至光亮为止。抛光时并不切削金属，只是抛去氧化膜，其损耗占镀层重量的5％～20％。
抛光时，首先把抛光轮的圆周速度调节到20～35m/s,零件形状简单、表面较硬时，转速可大些，反之则小些；然后根据被抛零件的材料，选用合适的抛光膏。抛光膏由黏合剂与磨料组成，抛光时与零件摩擦所产生的热量，使抛光膏中黏合剂熔化，起到抛光作用。抛光时，把零件压向抛光轮适当部位，其用力大小、抛光时间长短及手的动作，取决于抛光工艺的实践经验。抛光既用于镀前预加工，也用于镀后精细加工。